勻膠旋涂儀學會2個參數,輕松掌握！
更新時間：2020-05-13 點擊次數：2002
勻膠旋涂儀對于從事微流控領域的研究者來說并不陌生，它可以用來制備膜厚度<10nm薄膜，在1-100um厚度的光刻膠沉積光刻工藝中也常常用到。在微流控領域，載玻片、硅片、ITO導電玻璃等都可作為薄膜涂覆基底材料。勻膠旋涂儀原理簡單來講，通過片托產生負壓，將需旋涂基底材料吸附在片托上，然后將涂覆材料膠液滴注在基底材料表面，通過調節電機轉速，來改變離心力大小，同時控制膠液流量，從而獲得想要的膜厚度，當然，膜厚度還跟旋涂時間、膠液粘度、溫度以及濕度等因素有關。
勻膠旋涂儀性能相關的幾個參數：
1.片托材質：目前大部分勻膠機片托材質采用的一般是鋁合金或者是普通塑料，原因是成本低，對于一般要求是能夠滿足需求的，但是對于要求比較嚴苛行業來說，比如半導體以及化工行業，由于鋁合金抗腐蝕性不是很好，高溫和高壓會導致塑料你變形等原因，對于片托的要求就比較高，目前一般采用天然聚丙烯以及聚四氟乙烯材料，原因是這兩種具有材質綠色環保、重量輕、強度大，堅固耐用以及抗沖擊性能好等優點。
2.真空吸附以及清洗系統：真空泵系統壓力標定需準確，若實際壓力降低，可能會存在飛片現象，容易產生實驗事故。使用完旋涂儀后，需在泵開啟狀態，用有機溶劑進行氣孔清洗，確保下次正常使用。
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